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真空熱處理爐 小型1200℃主要用途,參數(shù)

作者: 發(fā)布時(shí)間:2017-04-25 瀏覽次數(shù):2316
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主要用途:適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備。

此款真空熱處理爐,連接有真空泵,可抽真空通惰性氣體等,專門設(shè)計(jì)用于對(duì)物料在真空狀態(tài)并通一定氣氛(如惰性氣體等)環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié),***高溫度可以達(dá)到1800℃。此款真空熱處理爐采用氧化鋁纖維作為爐膛材料,以硅鉬棒或者硅碳棒為加熱元件,爐體設(shè)計(jì)是爐膛具有較好的真空密封性,爐體上安裝有氣體控制系統(tǒng)。


真空熱處理爐主要用途:高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、 CVD 實(shí)驗(yàn)、真空退火用的理想產(chǎn)品工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備。

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真空熱處理爐詳細(xì)參數(shù);

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產(chǎn)品型號(hào)

XGM-GAZ-1

爐  膛

進(jìn)口高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛,保溫性能好。

爐管尺寸

Φ40/60/80/100/150/200mm

加熱元件

進(jìn)口硅碳棒

測(cè)溫元件

S分度,單鉑銠

控溫方式

溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù),具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能,30段升降溫程序

密封方式

不銹鋼法蘭擠壓密封

標(biāo)配真空度

-0.1Mpa(如需更高真空可選購不同真空系統(tǒng))

工作溫度

≤1350℃

***高溫度

1450℃

恒溫精度

±1℃

恒溫區(qū)長(zhǎng)度

200/300/400/500/600/800/1000mm(可根據(jù)客戶要求定制)

建議升溫速度

10-30℃/min

額定功率

6KW

工作電源

AC220V/380V    50HZ/60HZ

標(biāo)準(zhǔn)配件

密封法蘭1套,“O”型圈4個(gè),管堵4個(gè),高溫手套1副,坩堝鉤1把

可選購附件

爐架,供混氣系統(tǒng),低、中、高真空系統(tǒng),各種剛玉坩堝,剛玉管,計(jì)算機(jī)控制軟件,無紙記錄儀等。


溫度,爐管尺寸及爐管高溫區(qū)長(zhǎng)度均可根據(jù)客戶要求定制!


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